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技術(shù)文章
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矩形傳輸閥的產(chǎn)品介紹日揚(yáng)科技真空矩形閥由日揚(yáng)自主設(shè)計(jì)和生產(chǎn)制造，作為一款真空系統(tǒng)密封零部件，它擁有zhuoyue的操作性能、高耐用性、低振動(dòng)和高潔凈度等優(yōu)點(diǎn)。規(guī)格參數(shù)：閥門采用氣動(dòng)驅(qū)動(dòng)模式，開啟/關(guān)閉的最快時(shí)間不超過1s，閥體開口尺寸可按客戶需求定制。當(dāng)閥門開啟時(shí)，壓力差值小于10mbar，閥門內(nèi)部軸密封采用波紋管，閥體材料可以選擇不銹鋼或者鋁合金材質(zhì)，表面可以做電解拋光或者硬質(zhì)陽極氧化處理。應(yīng)用...
2024-06-11
《真空濺射技術(shù)》*章濺射技術(shù)2所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表面原子從母體中逸出的現(xiàn)象。21842年Grove（格洛夫）在實(shí)驗(yàn)室中發(fā)現(xiàn)了這種現(xiàn)象。21877年美國貝爾實(shí)驗(yàn)室及西屋電氣公司首先開始應(yīng)用濺射原理制備薄膜。21966年美國商用電子計(jì)算機(jī)公司應(yīng)用高頻濺射技術(shù)制成了絕緣膜。21970年磁控濺射技術(shù)及其裝置出現(xiàn)，它以“高速”、“低溫”兩大特點(diǎn)使薄膜工藝發(fā)生了深刻變化，不但滿足薄膜工藝越來越復(fù)雜的要求，而且促進(jìn)了新工藝的發(fā)展。2我國在1...
主要利用輝光放電（glowdischarge）將氬氣（Ar）離子撞擊靶材（target）表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板（substrate）表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電（glowdischarg...
zui普及的多層鍍膜測厚儀
簡要介紹了金剛石薄膜的發(fā)展，總結(jié)了金剛石薄膜的幾種主要制作工藝，并對各種工藝的優(yōu)，缺點(diǎn)進(jìn)行了分析．結(jié)合對金剛石應(yīng)用的討論，闡述了金剛石薄膜在工業(yè)領(lǐng)域中的應(yīng)用前景和發(fā)展趨勢．
本手冊是MDC-360晶控說明書的翻譯文稿,闡述了在使用ＭＤＣ－３６０時(shí)的參數(shù)設(shè)置，故障代碼，維修等方法，對MDC-360的使用者非常實(shí)用。
介紹一篇非常好的技術(shù)資料給大家,希望對使用石英晶控者有所幫助.
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